设备结构 | 箱式立式前开门。(内腔尺寸,中21 00mm × 1 700mm); |
烘烤蕞高温度 | 350 °C; |
常用温度 | 室温- 300 °C |
真空系统配置 | 主泵由分子泵(低温泵)、扩散泵+前级泵及气动阀门等 |
空载极限真空度 | 3.0 X 10-4 Pa; |
工作真空度 | 系统暴露大气后恢复真空度4× 10-3Pa,小于15分钟 |
蒸发源枪 | E型单枪或双枪,电阻蒸发源 |
离子源 | 霍尔离子源或考夫曼离子源由用户选配 |
深冷捕集装置 | 12P、15P可以选择,蕞低温度可达一135°C; |
保护装置 | 门上配备高压保护装置(防止漏电)以及开门限位装置 |
膜层控制仪 | 美国INFICON公司石英晶体控制仪sQC310单探头(原装进口) |
其他 | 配1 9寸工控机带触摸带断电记忆,可实现真空系统自动及镀膜连续自动控制。 |
设备专门为精密光学薄膜器件镀膜生产而设计,各系统单元不n总体结构很好地满足了光学薄膜生产工艺的要求,适用于AR、AF、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜。膜厚控制系统、性能优良的电子枪、自动化程度极高的镀膜控制系统等,是光学薄膜的理想镀制设备。